隨著（zhe）塑料製品（pǐn）日溢廣（guǎng）泛的應用，如日化用品和飲料包裝容器等，外觀的需要往往要求塑料模具型腔的表（biǎo）麵（miàn）達到鏡麵拋光的程（chéng）度。而生產光學鏡片、鐳射唱片等模具對表麵粗糙度要求極高，因而對拋光性的要求也極高。

拋光不僅增加工件（jiàn）的美觀，而且能夠改善材料（liào）表麵（miàn）的（de）耐腐蝕性、耐磨（mó）性，還可以使（shǐ）模具擁有其它優點，如使塑料製品易於脫模，減（jiǎn）少生產注塑周期（qī）等。因而拋光在塑（sù）料模具製作（zuò）過程中（zhōng）是很（hěn）重要的一道工序。

目前常用的拋光方法有以（yǐ）下幾種：

1.1 機械拋光（guāng）

機械拋光（guāng）是*切削、材料表麵塑性變形去掉被拋光後的（de）凸（tū）部而（ér）得到平滑麵的（de）拋（pāo）光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操（cāo）作（zuò）為主，特殊零件如回轉體（tǐ）表（biǎo）麵，可使用轉台等輔助工（gōng）具，表（biǎo）麵質量 要求高的可（kě）采（cǎi）用超精研拋的方法。

超精研拋是采用特製的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表（biǎo）麵上，作高速旋轉運動（dòng）。利用（yòng）該技術（shù）可以達（dá）到Ra0.008μm的表麵粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具（jù）常（cháng）采用這種方法。

1.2 化（huà）學拋光

化學拋（pāo）光是讓（ràng）材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解（jiě），從而得到平滑麵。這種方法的主要優點是不需複雜設備，可以拋光形狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋（pāo）光的核心問題是拋（pāo）光液的配（pèi）製。化學拋光（guāng）得到的表麵粗糙度（dù）一般為數10μm。

1.3 電（diàn）解拋光

電解拋光基本原理與化學拋光相同（tóng），即*選擇性的溶解材料表麵（miàn）微小凸出部分，使（shǐ）表麵光滑。與化學拋光相比，可（kě）以（yǐ）消除陰極反應的（de）影響，效果（guǒ）較好。電化（huà）學拋光過（guò）程分為兩步：

（1）宏觀整（zhěng）平 溶解產物向電解液中擴散，材料表麵幾何粗（cū）糙下降，Ra＞1μm。

（2）微光平整（zhěng） 陽極極化，表麵光亮度提高（gāo），Ra＜1μm。

1.4 超聲波拋（pāo）光

將工件放（fàng）入（rù）磨料懸浮（fú）液中並一起（qǐ）置於超（chāo）聲波場中，依*超聲波的振蕩作用，使（shǐ）磨料在（zài）工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小，不會引起工件變形，但工裝製作和安裝較困難。超聲（shēng）波加工可以與化學或電化學方法結（jié）合。在溶液腐蝕、電解的基（jī）礎上，再施加超聲波（bō）振動攪拌（bàn）溶液，使工件表麵溶解產物脫離，表（biǎo）麵附近的腐蝕或電解質均勻；超聲波在液體中的空化作用還（hái）能夠抑製腐蝕過程，利於（yú）表麵光亮化

1.5 流體拋光

流體拋光是依*高速流動的液體及其攜（xié）帶的磨粒衝刷工（gōng）件表麵達（dá）到拋光的目的（de）。常用（yòng）方法有：磨料噴射加工、液（yè）體噴射加工、流（liú）體動力研磨等（děng）。流體動力研磨是由液壓驅動（dòng），使攜帶磨粒的液體介質高速往複流過工件（jiàn）表麵（miàn）。介質（zhì）主要采用在較低壓（yā）力下流過性好的特殊化合物（聚合物狀物質）並摻上磨料（liào）製成，磨料可采用碳（tàn）化矽粉末（mò）。

1.6 磁（cí）研磨拋光

磁研磨拋（pāo）光是利用磁性磨（mó）料在磁場作用下形成（chéng）磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加（jiā）工效率高，質量（liàng）好（hǎo），加工（gōng）條件容易控製，工作條件好。采用合適的磨料，表麵粗糙度可以（yǐ）達到Ra0.1μm。

在塑料模具加工（gōng）中所說的拋光與其他行業中所要求的表麵拋（pāo）光有很大的不同，嚴格來說，模具的拋光應該稱為鏡麵加工。它（tā）不僅對拋光本身有很高的要求並且對表麵平整度、光滑度以及幾何精確度（dù）也有很高的標準。表麵拋光一般隻要求獲得光亮的表麵（miàn）即可。

鏡麵加工的（de）標（biāo）準分為四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由於電解拋光、流體拋（pāo）光等方法（fǎ）很難精確控製零件的幾何（hé）精確度，而化學拋光、超（chāo）聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表（biǎo）麵質量又達不到要求，所以精密模具的鏡麵加工（gōng）還是以機械拋光為（wéi）主。

機械拋光基本程序

要想獲得高質量的拋光效果，最重（chóng）要的是要具備有高質量（liàng）的油石（shí）、砂（shā）紙和（hé）鑽石研磨膏（gāo）等拋（pāo）光工具和輔助品。而拋（pāo）光程序的選擇取決於前期加（jiā）工後的表麵狀況，如機械加工（gōng）、電火花加工，磨加（jiā）工等等（děng）。機械拋光的一般過程如下（xià）：

1、粗拋

經銑、電火花、磨等工（gōng）藝後的表麵可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉表麵拋光機或超聲（shēng）波研（yán）磨機進行拋光。常用的方法有利用直徑Φ3mm、WA # 400的輪子去除白色電（diàn）火花層。然後（hòu）是手工油（yóu）石研磨，條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻（què）劑。一般的使用順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造商為了節約時間而選（xuǎn）擇從#400開始。

2、半精拋

半精拋主要使用砂紙和煤油。砂紙的號數依次為：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際（jì）上#1500砂紙隻（zhī）用適於（yú）淬（cuì）硬的模具鋼（gāng）（52HRC以上），而不適用於（yú）預硬鋼，因為這（zhè）樣可能會導致預硬（yìng）鋼件表麵燒傷。

3、精（jīng）拋

精拋主要使用鑽（zuàn）石研磨膏（gāo）。若用（yòng）拋光布（bù）輪混合（hé）鑽石研磨粉（fěn）或研磨膏進行研磨的（de）話，則通常的研磨順序是9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的鑽石研磨膏和拋（pāo）光布輪可用來（lái）去除（chú）#1200和#1500號砂紙（zhǐ）留（liú）下的發（fā）狀磨痕。接著用粘氈和（hé）鑽石研磨膏進行拋光，順（shùn）序為1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。

精度要求在1μm以上（包括1μm）的拋光工藝在模具加工車間中一個清潔的（de）拋光（guāng）室內（nèi）即可進行。若進行更加精密（mì）的拋光則必需一個絕（jué）對潔淨的空間。灰（huī）塵、煙霧，頭皮（pí）屑和口水沫都有可（kě）能報廢數（shù）個小時工作後得到的高精（jīng）密拋光表（biǎo）麵。

機械拋（pāo）光中要（yào）注意的問題

用砂紙拋光應注意以下幾點：

1、用砂紙拋光需（xū）要利用軟的木棒或竹棒。在拋光圓麵或球麵時，使用軟木棒可更好的配合圓麵和球麵（miàn）的弧度。而較硬的木條像櫻桃木，則更適用（yòng）於平整表麵的拋（pāo）光（guāng）。修整（zhěng）木條的末端使（shǐ）其能（néng）與（yǔ）鋼件表麵形狀保持吻合，這樣可以避免（miǎn）木條（或竹條）的銳角接觸鋼件表（biǎo）麵而造成較深的劃痕（hén）。

2、當（dāng）換用不（bú）同型號的砂（shā）紙時，拋光方向應變換45°~ 90°，這樣前一種型號砂紙拋光後（hòu）留下的條紋陰影即可分辨出來。在換不同型號砂紙之前（qián），必須用100％純棉花沾取酒精之類的清潔液對拋光表麵進行仔細的擦拭，因為一顆很小的沙礫留在表（biǎo）麵都會毀壞接下去的整個拋光工作（zuò）。從砂紙拋光換成鑽石研磨膏拋光時，這個清潔過程同樣（yàng）重要。在拋光繼續進行之前，所（suǒ）有顆粒和（hé）煤油都必須被完全清潔幹淨。

3、為（wéi）了避免擦（cā）傷和燒傷工件表麵，在用#1200和#1500砂紙進行拋光時必須特別小心。因（yīn）而有必要加（jiā）載一個輕載荷以及（jí）采用兩步拋光法對表麵進行拋光。用每（měi）一種型號的砂紙進行拋光時都應沿兩個不同方向進行兩次拋光，兩個方向之間每次轉動45°~ 90°。

鑽石研磨拋光（guāng）應注（zhù）意以下幾點：

1、這種拋光必須盡（jìn）量（liàng）在較輕的壓力下進行特別是拋光（guāng）預硬鋼件和用（yòng）細研磨膏拋光（guāng）時。在（zài）用#8000研磨膏拋光時（shí），常用載荷為100~200g/cm2，但要保持此載荷的精準度很難做（zuò）到（dào）。

為了更容易做到這一（yī）點，可（kě）以（yǐ）在木條上做（zuò）一個薄且窄的手（shǒu）柄，比如加一銅片；或者在竹條上切去一部分而使（shǐ）其更加柔軟（ruǎn）。這樣可以幫助控製拋光壓力，以確保模具表麵壓力不會過高。

2、當使用鑽石研磨拋光時，不僅是工作表麵要求潔淨，工作者的雙手也必須仔細清潔。

3、每次拋光時間（jiān）不應過長，時間越短，效果越好。如果拋光過（guò）程進行得過長將會造成“橘皮”和“點（diǎn）蝕”。

4、為獲得高質量（liàng）的（de）拋光效果，容（róng）易發熱的拋光方法和工具都應避免。比如：拋光輪拋光，拋光輪產生的（de）熱量會很（hěn）容易（yì）造成“橘皮”。

5、當拋（pāo）光過程停止時，保證工件表麵潔淨和仔細去除（chú）所有研磨劑和潤滑劑非常重要，隨（suí）後應在（zài）表麵噴淋（lín）一層模具防鏽塗層。

由於機械拋（pāo）光（guāng）主（zhǔ）要還（hái）是*人（rén）工完（wán）成，所以拋光技術目前還是影響拋光質量的主要原因。除此之外，還與模具材料、拋光前的（de）表麵（miàn）狀況、熱處理工藝等有關。優質的鋼材是（shì）獲得良好拋光質量的前提條件，如果鋼材表（biǎo）麵（miàn）硬度不均或特性上有差（chà）異（yì），往往會產生拋光困難。鋼材中的各種夾（jiá）雜物和氣孔都不利（lì）於拋光。

不同硬度對拋（pāo）光工藝的影響

硬度增高使研磨的困難增大，但拋光後的粗糙度（dù）減小。由於硬度的增高，要（yào）達到較低的粗糙度所需的拋光時間相應增長。同時硬度增高，拋光過度的可能性相（xiàng）應減少。

工件表麵狀況對拋光工藝（yì）的影響

鋼材在切削機械加工的破（pò）碎過程中，表層會因熱量、內應力或其（qí）他因素而損壞，切削參數不當會影響拋光效（xiào）果。電（diàn）火花加工（gōng）後的表麵比普通機械加工或熱處（chù）理後的表麵（miàn）更難研磨，因此電火花加工結束前（qián）應采用精規準電火花修整，否則表麵會形成硬化薄層（céng）。

如果電火花精修規準選擇不當，熱影響層的深度最大可達0.4mm。硬化薄層的硬度比基體硬度高，必須去除。因此最（zuì）好增加一道粗磨加工，徹（chè）底清除損壞表麵層，構成一片平均粗糙的金屬麵（miàn），為拋光（guāng）加工提供一個良好基礎。

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