塑料成（chéng）型工藝（yì）中描述的（de）拋光（guāng）與其他行業所需的表（biǎo）麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的（de）拋（pāo）光應稱為鏡麵拋（pāo）光。它不（bú）僅對拋光

本身有很高的要求（qiú），而且對表麵平（píng）整度、的平（píng）滑度（dù）和幾何精度也有很高的標準。表麵拋光通（tōng）常僅需要光澤（zé）表麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋光的（de）過程中，它是難以（yǐ）準確地控（kòng）製各（gè）部分的幾何精（jīng）度，由於化學拋光所（suǒ）述超（chāo）聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是必需（xū）的（de），精密模具主要（yào）是基於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主（zhǔ）要使用砂紙實驗室和煤油協會。

　　2、精密拋光（guāng）主要製作金剛石膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的（de）痕跡，拋（pāo）光布為9um的金剛石研磨膏（gāo）你可以使（shǐ）用方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿（jiāng）料進行拋光。要求精度為1微米或更大（包括1微米）的（de）拋光（guāng）工藝

必須是絕（jué）對（duì）清潔的（de）空間，用於拋光模具。灰塵、煙霧，頭皮（pí）屑和唾液可能具有高精度（dù）拋（pāo）光（guāng）表麵，可（kě）在工（gōng）作數小時後獲得。

　　3、為了獲得機械（xiè）拋光的基本程序，高質（zhì）量的拋光效果（guǒ），最重要的是（shì）要有高質量的拋光（guāng）工具（jù）和砂紙和研磨膏等配件。最重（chóng）要的是一個複雜的工作環境，需（xū）要一個潔淨室。拋（pāo）光程序的選擇取（qǔ）決於先前加工的表麵（miàn）狀況，例如、 EDM加工（gōng），磨削。

　　4、機械拋光的一般過程（chéng）如（rú）下。粗拋、銑削、電（diàn）火花、的處理之後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或（huò）超聲波粉碎機（jī）旋轉。常見的方（fāng）法（fǎ）是使用直（zhí）徑為3 mm、 WA＃400的（de）輪子去除白色火花層。然（rán）後手動油石磨，金剛石

砂岩和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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